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发布时间：2024-11-22 作者： 来源： 浏览次数：
中知研发〔2024〕82号
各有关单位：
为规范推进高：涂蒲谢棺ɡ擞，切实提高高：涂蒲谢棺ɡ晒б。中国知识产权研究会组织相关单位起草了《高：涂蒲谢棺ɡ擞霉娣吨敢ㄕ髑笠饧澹。根据工作需要，现广泛征求社会各界的意见建议。请于2024年12月15日前通过以下途径提出意见建议：
联系电话：010-61073467
电子邮箱：cipsxueshubu@126.com
特此通知。
附件：
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2.《高：涂蒲谢棺ɡ擞霉娣吨敢ㄕ髑笠饧澹
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中国知识产权研究会
2024年11月21日
（编辑：冉汐）
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